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【純水設備http://】單晶硅等硅材料、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。目前對其清洗和生產的水質精度要求都比較高,電阻度一般要求大于10兆歐/厘米;
其主要工藝如下:
1、采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合的方式,其基本工藝流程為:原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→混床(復床)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點 2、采用反滲透水處理設備與電去離子(EDI)設備進行搭配的的方式,這是一種制取超純水的最新工藝,也是一種環(huán)保,經濟,發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?,其基本工藝流程為:原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→電去離子(EDI)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點,純水設備 ,GMP純化水設備,GMP純化水設備。
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